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        半導體行業為什么離不開超純水設備？半導體行業的發展程度是衡量一個國家科技發展水平的核心指標。發展半導體產業，必然少不了電子芯片的生產制造。制造芯片的過程十分復雜，關鍵的步驟是沉積、光刻膠涂覆、刻蝕、離子注入和封裝。而這些步驟都離不開超純水，因為芯片生產過程需要超純水進行清洗。

        芯片生(sheng)產(chan)過程中需要用的工藝清洗用水(shui)，得用幾近絕緣的水(shui)質(zhi)，被(bei)稱作超純水(shui)，出水(shui)電(dian)阻(zu)率(lv)達到18Ω .cm左右。除電(dian)阻率，半導體(ti)生產(chan)用水對如微粒子、 TOC、溶(rong)解(jie)氧(yang)等(deng)指標(biao)也會有相應要(yao)求。那么(me)指標(biao)要(yao)求這(zhe)么(me)高的超純水(shui)是如何制備(bei)出來的呢？自(zi)(zi)然(ran)界中不存在超純水(shui)，要(yao)制備(bei)這(zhe)種超純水(shui)，就(jiu)需(xu)要(yao)將自(zi)(zi)然(ran)水(shui)通(tong)過合適工(gong)藝處理而成。

      半導(dao)體(ti)超純水設備并不只是一種固定工(gong)藝(yi)系統，而是很多水處理工(gong)藝(yi)模(mo)塊的靈活(huo)組合~包括(kuo)預(yu)處理(li)過濾部分(fen)、RO反滲透(tou)技(ji)術、EDI連續電解除鹽技(ji)術和拋光混床工藝等。

工藝流程主要包括：

水源進水 —— 原水儲水箱  ——  多介質過濾器 —— 活性炭過濾器 —— 阻垢裝置 —— 5 微米精密過 濾器 —— 雙級反滲透純水機組 —— 反滲透產水儲水箱 —— EDI 超純水制水 機組 —— 超純水產水儲水箱 

（可根(gen)據行業生產(chan)要求，還會配置(zhi)拋(pao)光混(hun)床，中(zhong)間水箱(xiang)等，根(gen)據客戶需求來定(ding)制方案(an)）